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第261章 提前布局自己的半导体(第2页/共2页)

然后,李默这才开口问道:“那校长,你想要做是多少纳米的光刻机?”

“14纳米。”

这就让李默和徐华更疑惑了。

“可是我们自己的国产14纳米euv天工一号不是有了吗?”

面对两人的不解,许黎则是摇了摇头。

“这次我要弄的是不是如今的极紫外光刻,而是纳米压印光刻。”

纳米压印光刻?!

两人有些讶异。

很明显他们也了解过。

“你们应该知道,目前的极紫外光源光刻技术经过光学曝光,会造成光衍射现象以及分辨率极限问题,而纳米压印光刻技术是最适合工业化生产的,虽然天工一号出来了,但是目前还是无法满足国内需求,而且我们公司和学校也需要发展自己的半导体体系。”

目前燧人科技在国内半导体也是有了名声,在超体存储器以及极紫外光源名声在外。

但是还未形成自己完整的设计制造体系。

以后燧人发展壮大,少不了一些机密的半导体元件,出于安全需要,所以才需要发展自己的半导体体系。

现在燧人美妆也成功让其子公司融资,接下来会为燧人科技源源不断注入资金,那纳米压印技术也没必要压着了。

可是试着开一开了。

之前许黎是怕这玩意一旦投入,免得到时候烧钱烧不住了。

现在一笔稳定的资金攻击有了,倒是可以开展布局了。

“校长,容我打扰,据我所知,虽然有人提出过纳米压印这种半导体技术,但是也存在许多问题,

首先比较依赖光刻技术,以我们目前掌握的极紫外光源应该可以应付,但底胶问题又该怎么解决?”

徐华推了推眼镜。

纳米压印的底胶需要去除,要不然会降低芯片的质量。

加上对准方面也会造成精度偏差方面的问题。

这可不是一朝一夕就能解决的。

总之,目前纳米压印想要实现大规模应用于集成电路还有很大的距离。

徐华感觉要实现纳米压印技术目前还是不可能的。

理论到实践,这其中的过程,可是一路坎坷的,最终的结果还不一定是成功。

这是他身为一个科研人员的经验。

虽然现在学术界内有不少人提出各种各样的理论,但是投入资金最终实现的也没有几个。

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